产品服务
NEWWAY
技术服务
TECHNICAL SERVICE
技术服务
图形检查处理服务
Mask Design Rule Check
公司提供Mask Design Rule Check服务，客户可通过DRC对数据进行规则检查，可以防止制造过程中异常发生。
光学邻近校正
Optical Proximity Correction
通过预先对掩模图形进行精确修正，以补偿光刻过程中光学失真，从而确保在硅片上获得高保真图形的关键技术。此外，公司还可提供Format Transferring, Density, Bias, Mirror, Scaling, Boolean, Array Reference, Difference, Reticle Alignment Mark, Barcode, ESD 等数据处理服务。
远程资料验证服务
Job Deck View
公司提供Job Deck View服务，客户可通过在线JDV方式对设计文件进行确认，公司可以支持的文件格式包括MEBES、GDSII、OASIS、DXF、DWG、CIF、TDB、DPF等。
掩膜版清洗服务
Mask Cleaning Services
客户可以通过掩膜版清洗服务清洗掩膜版表面的颗粒，并重新对产品进行重新检测和测量，以确认产品是否可继续使用。
重贴膜服务
Pellicle Remount Services
客户可通过重贴膜服务，将划伤、破损、撕裂、脏污的光学膜去除，经过清洗、检测后再重新贴膜。
掩膜版局部维修服务
Mask repair services
公司提供掩膜版局部维修服务，客户可通过提供需要修复区域的局部现象放大图片，或者返厂给我司检验评估后，针对铬膜局部区域的缺损，可进行修复处理。